再生
围绕使用后硅片建立完整再生路径,涵盖来料分选、膜层去除、面型修复与清洗检测,使晶圆重新获得可控、可验证的使用价值。

MATERIAL EXPERIENCE
再生 · 减薄 · 研磨 · 抛光 · 清洗——覆盖硅片全生命周期加工需求
OVERVIEW
硅片是半导体产业的基石,贯穿集成电路制造、功率器件、传感器等几乎所有核心环节。
致领半导体晶圆事业部以硅片加工为核心能力,覆盖从再生恢复到精密减薄、研磨、抛光、清洗的完整工艺链。基于设备制造经验与现场加工积累,针对不同晶向、电阻率、厚度与表面状态的硅片,提供可追溯、可验证的加工方案。
无论是使用后硅片的再生恢复,还是新片的厚度调整与表面优化,团队从进厂评估开始,为每一种来料状态选择适配的工艺路线,确保批次一致性与过程可控性。

PROCESS CAPABILITIES
围绕使用后硅片建立完整再生路径,涵盖来料分选、膜层去除、面型修复与清洗检测,使晶圆重新获得可控、可验证的使用价值。
根据材料特性、目标厚度与面型要求制定加工路线,兼顾材料去除效率、表面保护与批次厚度一致性。
提供双面研磨与精密研磨服务,通过磨轮选型、进给策略与冷却控制实现稳定的面型改善与厚度控制。
覆盖粗抛、中抛与精抛组合,通过压力、转速、时间、耗材与浆料的协同优化,达到目标表面状态。
覆盖毛刷清洗、去蜡及多槽RCA等清洗方式,针对颗粒、有机残留、化学残留和二次污染进行过程控制。
SPECIFICATIONS
| 尺寸范围 | 4英寸~12英寸 |
| 厚度范围 | 50μm~750μm |
| 电阻率 | 0.001~20 Ω·cm |
| 晶向 | <100> / <111> / <110> |
| 导电类型 | P型 / N型 |
| 表面状态 | 抛光面 / 磨面 / 外延面 |
APPLICATIONS