硅片材料

MATERIAL EXPERIENCE

硅片

再生 · 减薄 · 研磨 · 抛光 · 清洗——覆盖硅片全生命周期加工需求

OVERVIEW

材料概述

硅片是半导体产业的基石,贯穿集成电路制造、功率器件、传感器等几乎所有核心环节。

致领半导体晶圆事业部以硅片加工为核心能力,覆盖从再生恢复到精密减薄、研磨、抛光、清洗的完整工艺链。基于设备制造经验与现场加工积累,针对不同晶向、电阻率、厚度与表面状态的硅片,提供可追溯、可验证的加工方案。

无论是使用后硅片的再生恢复,还是新片的厚度调整与表面优化,团队从进厂评估开始,为每一种来料状态选择适配的工艺路线,确保批次一致性与过程可控性。

硅片加工现场
Si SILICON WAFER

PROCESS CAPABILITIES

加工能力

再生

围绕使用后硅片建立完整再生路径,涵盖来料分选、膜层去除、面型修复与清洗检测,使晶圆重新获得可控、可验证的使用价值。

减薄

根据材料特性、目标厚度与面型要求制定加工路线,兼顾材料去除效率、表面保护与批次厚度一致性。

研磨

提供双面研磨与精密研磨服务,通过磨轮选型、进给策略与冷却控制实现稳定的面型改善与厚度控制。

抛光

覆盖粗抛、中抛与精抛组合,通过压力、转速、时间、耗材与浆料的协同优化,达到目标表面状态。

清洗

覆盖毛刷清洗、去蜡及多槽RCA等清洗方式,针对颗粒、有机残留、化学残留和二次污染进行过程控制。

SPECIFICATIONS

规格参数

尺寸范围4英寸~12英寸
厚度范围50μm~750μm
电阻率0.001~20 Ω·cm
晶向<100> / <111> / <110>
导电类型P型 / N型
表面状态抛光面 / 磨面 / 外延面

APPLICATIONS

应用方向

集成电路制造
功率器件
MEMS传感器
光电器件
分立器件
硅基外延衬底